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Atomic Layer Deposition
David Cameron , Tommi Kääriäinen , Marja-Leena Kääriäinen , Arthur Sherman
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a...

Editeur : Wiley-Scrivener
Parution : 2013-05-17
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